光刻，作為集成電路(IC或芯片)制造的核心工藝之一，其本質是通過光掩膜和光刻膠在基板上精確地復制電路圖案。在此過程中，基板會被涂覆上硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠的特性是在受到紫外光照射后，能夠輕易地被顯影劑溶解。經過這一步驟及隨后的腐蝕處理，電路圖案便永久地留在基板上。

　　無塵室，或稱潔凈室，是一個經過特殊設計以排除空氣中微塵粒子等污染物的環境。這種高度潔凈的環境對于眾多高精度制造產業至關重要，尤其是半導體制造業。在這一領域，對室內的溫濕度和潔凈度要求極為嚴格，因為這些因素會直接影響到制程的質量和效率。

　　在光刻區，為何偏偏選擇黃光呢?這背后有著深刻的科學原理。光刻膠的感光范圍通常位于200nm至500nm之間，這意味著只有在這個特定波長范圍內的光線才能引發光刻膠的化學反應。而在這個范圍內，紫外線、紫光和藍光由于可能對制程產生不利影響，因此在光刻區是嚴格禁止使用的。

　　黃光之所以受到青睞，首先是因為其波長較長，不易引發光刻膠的化學反應，從而保證了制程的穩定性。其次，黃光相比其他顏色的光更為柔和，不易在設備或晶圓表面產生刺眼的反射或眩光，這對于保護操作人員的視力極為重要。此外，黃光還能確保光刻過程中使用的顏色敏感的化學品或其他材料的顏色不受其他光源的干擾或失真。

　　特別值得一提的是，專為光刻設計的無紫外線T8 1.2m黃光LED燈管，它不僅可以直接替換傳統的T8熒光燈管，而且具備出色的紫外線保護功能，能有效阻擋500納米以下的紫外線波長。這種燈管還擁有穩定的質量、過熱、過流和短路保護等多重安全特性，以及長達50,000小時的使用壽命。選擇這樣的燈管，不僅確保了光刻制程的穩定性和效率，也為操作人員提供了一個更為舒適和安全的工作環境。